同位素靶站2主工艺系统

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同位素靶站2主工艺系统主要包括靶盒升降模组、装卸靶组件等，设计束流能量70MeV~115MeV，流强0.05~0.5mA。核心设备包括：耐辐照升降模组、冷却钢桶、耐辐照机械臂及自动化控制系统等。主要技术指标包括：冷却钢桶直径大于等于φ490毫米，总长度约8.7米，壁厚不小于8毫米，其中预埋段长度约7.4米。钢桶整体采用无缝不锈钢管，并探伤无内外穿透、夹杂、裂缝、裂纹等缺陷。反应靶系统组件长宽高约200×200×20毫米，带有机械臂可自动开合的开合挡板，工作时内部压力约0.3MPa，工作时最大剂量2×108Gy/h，年工作时间约3000小时，设计寿命3年。升降模组、机械臂等核心设备耐辐照能力好于5×105Gy，机械臂平举能力大于10kg，夹钳形态满足间距5mm靶片夹取要求。以上核心参数根据用户需求可能进行适当调整，其余设备以具体技术要求为准。质量要求：厂家按照系统设备参数要求，严格进行材料及设备选型，严格把控加工制造及安装调试环节，高质量完成设备加工制造及安装调试，系统设备整体质保期3年。服务要求：厂家负责总体设计、主体结构的工程设计、设备的采购、加工、装配、关键部件测试验证、系统设备运输、现场安装及调试，并向用户提供使用人员培训服务；质保期内，厂家提供全面的技术支持；在保质期内出现问题，所产生的维修费用（包括零部件费用、运返费用、人工费用等）均由供应商承担；保质期满后，供应商对系统设备应提供终身维修服务。维修及服务响应时间≤3小时，工程师于48小时内到达现场给出解决方案。安全责任：厂家承担研制、安装及调试过程中的安全保障及安全责任。时限要求：合同签订后5个月内完成整体加工、出厂前调试及交付，交付后3个月内完成现场安装及调试。