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历史招中标信息12414条
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| 项目名称 | 微纳米结构制备系统项目 | 项目编号 | ****点击查看 |
| 公告发布日期 | 2025/09/04 10:02 | 公告截止日期 | 2025/09/08 10:50 |
| 采购单位 | ****点击查看 | 付款条款 | 验收合格后，15个工作日内支付全款。 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系手机 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 是否需要踏勘 | 否 | ||
| 踏勘联系人 | 踏勘联系电话 | ||
| 踏勘地点 | 踏勘联系时间 | ||
| 采购预算 | ￥210,000.00 | ||
| 送货/施工/服务期限 | 合同生效之日起7个工作日内 | ||
| 送货/施工/服务地址 | ****点击查看**学院路3号****点击查看主楼2层 | ||
| 履约保证金 | 无 | ||
| 项目概况 | 本项目旨在以≤50nm精度实现纳米结构传感器，解决光学光刻精度不足、电子束光刻成本过高及EUV技术封锁痛点。配套在线检测与AI工艺优化，实现高产能及80%良率，突破高深宽比3D结构制造瓶颈，支撑纳米器件产线。 | ||
| 采购内容 | 是否进口 | 计量单位 | 采购数量 | 售后服务及其他要求 | |
| 微纳米结构制备系统 | 否 | 台 | 1 | 1、要求提供原厂技术人员现场安装培训，达到用户基本掌握设备的使用方法为标准。 2.售后服务要求 （1）质保期一年（自验收合格之日起计算），质保期内免费保修（人为因素除外），即质保期内对所有货物进行免费无偿维护服务，如果出现非人为因素的质量问题，免费予以维护。 （2）服务响应时间,在接到客户要求维护的通知后，由专业人员2小时内响应，24小时内提出具体解决方案，48小时内专业技术人员上门现场解决，使设备尽快恢复正常。 | |
| 参考品牌及型号 | 不限定品牌型号 | ||||
| 技术参数要求 | 1、支持母版和压印基底尺寸：最大4英寸直径晶圆，兼容3英寸、2英寸直径晶圆。 2、压印过程中实现全自动压印和脱模过程，无需手动脱模。 3、工作原理：采用高精度辊轮系统作为压印动力，实现Plate to Plate的渐近式压印。 4、压印压力：压印压力可在 10000-300000Pa 之间通过软件设置，精密比例阀控制压力。 5、压印速度可在软件中设置，设置范围0.5-30mm/s。 6、设备配置主机和独立的工作模具更换单元。 7、工作模具使用PET作为工作模具胶的支撑衬底，PET厚度可使用250um或125um，PET尺寸为A4。 8、曝光单元：光源波长365nm，最大功率可达700mW/cm2，曝光均匀性≥85% 9、基底加热系统：软件控温，加热温度室温至 70°C，温度均匀性：±3%，温度设置精度：±1°C 10、压印参数可在软件控制界面编辑，存储，压印参数配方可保存 100 组，可对参数配方进行调用，修改，删除等操作。 11、可按照设定的压印过程自动执行，也可在 Service 界面中对设备动作单独操作。 12、带有各报警功能，当操作者误操作或者设备故障时会弹出相应报警对话框，便于及时处理 问题压印过程实时动画演示，便于操作者了解工艺进程。 13、转印精度误差：小于±5% 14、残余层厚度：可达20nm及以下。测试方法为连续压印10片，选取第1、5、10片压印片，片内测试任意3点。 15、残余层均匀性：验收过程中厂家可证明 100mm 晶元面积内优于±10nm（非设备极限，扣除测量以及匀胶产生的误差） 16、压印线宽：压印结构精度最小可达10nm，验收过程中由厂家提供模具，证明可压印50nm结构精度 17、压印结构深宽比：7.5:1 | ||||
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